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光电子技术将在新世纪长足进步 2000-11-30 科技时报 |
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由中国工程院信息与电子工程学部主办、主题为“新世纪光电子技术的展望”的第五场“工程科技论坛”今天在京举行,苏君红、周立伟、陈良惠、金国藩等7位院士分别就红外光电探测技术、像增强技术与微光摄像技术、光通讯及其光电子技术、高密度光存储技术等的现状和今后的发展作了报告。 航天遥感、红外光电技术专家龚惠兴院士主持了此次论坛。他说,作为21世纪信息技术的主要支柱,光电子信息技术将在新世纪取得长足进步,并对经济建设、社会发展和人们的日常生活产生重大影响。 据介绍,在红外光电探测技术方面,90年代中期获得实用化的两种主流非制冷焦平面热像仪,以高性价比的特点,打破了长期以来因红外热像仪高昂的成本而难以被应用的局面,在军民用市场,特别是在民用市场具有广阔的发展潜力。专家预计,到2001年,非制冷型的热像产品的出货量将开始首次超过制冷型。 而高性能红外系统仍以碲镉汞和锑化铟焦平面器件为主,虽然碲镉汞和锑化铟探测器已有40多年的历史,但目前还没有一种新的材料能替代它们,因此还将以其高量子效率、高灵敏度、覆盖中波和长波的优势,成为第二代、第三代热成像仪和其它高级红外系统的优选材料。 在微光成像技术方面,在新世纪将向着高增益、高分辨率、低噪声、宽光谱响应、大动态范围、小型化、固体化方向发展。在未来10年间,各种成像元器件在性能上将有很大提高,如将会出现4K×4K高密度的CMT面阵、灵敏度高达4000μA/1m以上且光谱响应向1.5μm以上波长扩展的NEA光阴极等,将使图像增强、低照度摄像和光子计数探测等技术跃上一个新台阶。 在光电显示器件应用方面,对于阴极射线管,虽然技术已趋成熟,但仍然在不断发展,不论彩色显像管还是彩色显示管,它们都将向大屏幕及全平面化发展,向数字式和超高分辨率方向发展,向高亮度及对比度综合性能方向发展。对于液晶显示器,未来10年内TFT—LCD技术的发展会更加迅速,其产品品质和功能将有突破性进展,可以将信息处理系统及太阳能电池等集成到TFT—LCD屏上,从而成为纸张式电脑,可以用作电子报纸、电子书刊等,真正实现无纸张办公室。 彩色等离子体显示器是光电显示器件应用的高新技术产品,世界各国都在竞相发展。院士们建议现在要花一定的力量对其关键技术进行研究,当务之急是提高彩色等离子体显示器的质量和降低成本,以发展和普及我国大屏幕平板显示技术。 在高密度光存储技术方面,随着精密技术及弱信号处理等相关技术的进步,信息的记录单元将从目前的分子团逐渐缩小到单原子或分子量级,并行读写将逐步代替串行读写以提高数据的读取传输率,存储空间将从目前的二维存储向多维存储发展,还将努力实现无机械寻址功能的实用化,从根本上解决目前难以提高随机寻址速度的问题。
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