业界消息，日前，芯硕半导体（中国）公司在合肥市举行新闻发布会，正式宣布中国首台亚微米级无掩膜（直写式）光刻机研制成功，并于2007年12月正式下线，单线分辨率达0.4微米。

芯硕半导体（中国）研制成功的中国国内首台亚微米级无掩膜光刻机于1月11日通过了由中国工程院院士张钟华、叶声华等专家组成的鉴定组鉴定，拥有自主知识产权，填补了中国国内光刻机在该项领域的空白。该光刻机分辨率达到0.65微米。相对于同类产品，芯硕的"光刻机"具有污染小、产能高、运行成本低、应用范围广、操作便捷等多项优势，可应用于半导体行业、生物、医药、光电、太阳能电池、新能源等不同领域。

光刻机是生产半导体芯片最核心的设备之一。中国是全球集成电路消耗最多的国家。而此前中国国内光刻机全部需进口。芯硕光刻机的面世标志着中国亚微米级光刻机完全依赖进口的局面将被打破。

芯硕半导体公司预测，在今年7月、8月公司新厂房完工之后，预期每年可生产光刻机100台，其中60%的产品将供应给海外市场。